香港の新特許制度即ち、「2016年特許条例（改正）」は、2019年12月19日に施行される予定である。
現行特許制度では、香港で出願される標準特許と短期特許のいずれも方式審査のみで登録される。新特許制度では特許出願人に、香港での標準特許保護のもう一つのルートとして、独自の特許付与制度（OGPシステム）が導入される。独自の特許付与制度では、特許出願人は香港で標準特許出願を直接に提出することができる。再登録制度に従い香港以外の指定特許庁（中国特許庁、イギリス特許庁、ヨーロッパ特許庁）における指定特許出願を行う必要がなくなる。独自の特許付与制度による標準特許出願は、発明の特許性を判断するために実体審査を受けなければならない。
新特許制度には短期特許制度に対する改正も含まれており、短期特許保護を最適化すると同時に、短期特許保護を請求する際の費用対効果を維持している。具体的に、現行制度では各短期特許出願に含まれる独立請求項は1項だけである。新特許制度では各出願は最大2項の独立請求項を含むことができる。また、権利者又は要件を満たす第三者の要請により、特許登録後の実体審査が行われる。権利者は短期特許保護の権利行使の根拠として実体審査を請求しなければならない。
新制度ではさらに特許従業に関する混乱または誤解を招く名称又は表現の使用を禁止した。
新特許制度の施行は香港の特許制度の発展におけるマイルストーンであると考えられており、イノベーションと知的財産取引センターとしての香港の発展を促進する効果もある。
（香港知的財産局のHP、WENPING＆CO. Patent& Trademark Agents HongKongからの情報より引用編集）
SPTLのコメント：
1、中国を含む三つの指定特許庁に既に特許を出願した場合は、コストの観点から従来のように香港で再登録するルートをお勧めします。
2、独自特許付与制度の実体審査は二審制であり（各応答期間は四カ月）、その後に2回レビュー（各応答期間は二カ月）のチャンスがある。出願人に留意して頂きたいのは新制度施行の初期段階では、香港知的財産局のスタッフや経験などが不足しているため実体審査の期間が長くなる場合があるということです。
香港の新特許制度の詳細については、次のリンクをご参照ください。
https://www.ipd.gov.hk/sc/intellectual_property/patents/New_Patent_System.htm
